Samsung Gandeng ASML Siapkan Teknologi Chip Generasi Baru, DRAM High NA EUV Ditargetkan 2028

KEBONCINTA.COM – Selasa, 8 September 2026 – Persaingan industri semikonduktor semakin ketat ketika kebutuhan chip untuk kecerdasan buatan, smartphone, komputer hingga pusat data terus meningkat.

Samsung Electronics dan perusahaan pembuat mesin chip asal Belanda, ASML, resmi memperluas kerja sama untuk mengembangkan teknologi manufaktur semikonduktor generasi berikutnya.

Salah satu fokus utama kerja sama tersebut adalah teknologi High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet atau High NA EUV.

Teknologi ini merupakan generasi terbaru dari mesin litografi EUV yang digunakan untuk mencetak pola transistor berukuran sangat kecil pada wafer semikonduktor.

Semakin kecil dan presisi pola yang dapat dibuat, semakin banyak transistor yang dapat ditempatkan dalam sebuah chip.

Hal tersebut pada akhirnya memungkinkan produsen meningkatkan performa sekaligus efisiensi daya prosesor maupun chip memori.

Samsung mengatakan perusahaan akan bergabung dalam inisiatif industri untuk mengembangkan platform photomask 12 inci.

Photomask dapat dianalogikan sebagai cetakan sangat presisi yang membawa pola rangkaian chip.

Pola tersebut kemudian diproyeksikan menggunakan cahaya EUV menuju wafer silikon dalam proses pembuatan semikonduktor.

Selama puluhan tahun industri semikonduktor menggunakan photomask berukuran sekitar 6 inci.

Namun perkembangan High NA EUV membuat ukuran tersebut mulai menjadi salah satu keterbatasan ketika produsen ingin membuat chip berukuran besar dan sangat kompleks.

Karena itu, industri mulai mengembangkan photomask 12 inci.

Ukuran yang lebih besar memungkinkan area chip yang lebih luas diproses dengan lebih efisien.

ASML bersama sejumlah produsen semikonduktor juga ingin mengurangi kebutuhan terhadap teknik stitching.

Stitching digunakan ketika desain chip terlalu besar sehingga harus dicetak melalui beberapa bagian berbeda lalu disambungkan.

Dengan photomask yang lebih besar, produsen dapat mengurangi keterbatasan tersebut.

Reuters melaporkan ASML menilai penggunaan platform mask yang lebih besar juga dapat meningkatkan produktivitas sistem High NA hingga sekitar 40 persen dalam pengembangan jangka panjang.

Namun teknologi tersebut masih membutuhkan pengembangan selama beberapa tahun sebelum digunakan secara luas di fasilitas produksi.

Samsung mempunyai rencana yang lebih dekat untuk teknologi High NA EUV.

Perusahaan menargetkan penggunaan mesin High NA EUV dalam produksi massal DRAM generasi mendatang pada 2028.

Jika terealisasi, Samsung menyebut langkah tersebut akan menjadi penggunaan High NA EUV untuk produksi DRAM volume tinggi pertama di industri.

DRAM merupakan jenis memori yang digunakan hampir di semua perangkat komputasi modern.

RAM pada komputer, smartphone, server maupun perangkat kecerdasan buatan menggunakan teknologi yang berasal dari keluarga memori tersebut.

Permintaan DRAM berperforma tinggi meningkat sangat cepat akibat perkembangan kecerdasan buatan.

Server AI membutuhkan kapasitas memori besar dengan bandwidth sangat tinggi agar GPU dapat memproses model AI tanpa terus menunggu data.

Kebutuhan tersebut mendorong Samsung, SK Hynix dan Micron mempercepat pengembangan generasi memori berikutnya.

Samsung berharap High NA EUV dapat membantu melanjutkan proses penyusutan ukuran transistor pada chip DRAM.

Resolusi mesin yang lebih tinggi memungkinkan pola rangkaian dibuat semakin kecil.

Proses manufaktur juga berpotensi menjadi lebih sederhana karena beberapa tahap pencetakan pada teknologi lama dapat dikurangi.

Selain memori, teknologi High NA EUV mempunyai peran penting dalam produksi prosesor.

Chip untuk smartphone, komputer, GPU dan kecerdasan buatan terus membutuhkan transistor yang semakin kecil.

Namun membuat transistor lebih kecil menjadi semakin sulit ketika industri mendekati batas fisika tertentu.

Inilah alasan mesin ASML mempunyai posisi sangat penting dalam industri semikonduktor global.

ASML merupakan satu-satunya perusahaan yang saat ini mampu memproduksi mesin EUV canggih dalam skala komersial.

Harga sebuah mesin EUV dapat mencapai ratusan juta dolar AS.

Mesin tersebut terdiri dari puluhan ribu komponen dengan sistem optik, laser serta mekanisme presisi yang sangat kompleks.

High NA EUV merupakan penerus dari sistem EUV yang digunakan produsen chip sekarang.

Teknologi tersebut mempunyai aperture numerik lebih tinggi sehingga memungkinkan mesin mencetak fitur yang lebih kecil pada wafer.

Intel menjadi salah satu perusahaan pertama yang memasang mesin High NA EUV.

Sementara TSMC, Samsung serta produsen semikonduktor lainnya mempunyai jadwal implementasi masing-masing.

Kerja sama Samsung dan ASML memperlihatkan bahwa perlombaan chip tidak hanya berlangsung pada desain prosesor.

Perusahaan juga bersaing dalam teknologi manufaktur yang digunakan untuk membuatnya.

Kemampuan memproduksi transistor lebih kecil dengan biaya dan tingkat keberhasilan yang baik dapat menentukan siapa yang mampu menghasilkan chip tercepat sekaligus paling hemat daya.

Ledakan AI membuat persaingan tersebut menjadi semakin penting.

Kebutuhan GPU dan memori pusat data melonjak tajam dalam beberapa tahun terakhir.

Samsung ingin memanfaatkan posisinya sebagai salah satu produsen memori terbesar di dunia sekaligus perusahaan yang mempunyai bisnis foundry.

Jika rencana implementasi High NA EUV berjalan sesuai jadwal, teknologi tersebut dapat menjadi salah satu fondasi pembuatan memori generasi berikutnya mulai 2028.

Konsumen mungkin tidak melihat mesin EUV secara langsung.

Namun teknologi yang dikembangkan Samsung dan ASML pada akhirnya dapat menentukan kemampuan RAM, smartphone, laptop hingga server AI yang akan digunakan beberapa tahun mendatang.